芯片战争的迷雾再起,一场轩然大波正在全球半导体行业掀起。
“不可能完成的任务”被攻破了?就在全球芯片产业被ASML垄断的铁幕之下,中国科研团队在光刻机核心技术上的突破,让整个产业链都坐不住了。
有人欢呼,有人质疑,还有人直呼”烟雾弹“。但台积电、ASML和美国政府的剧烈反应,却又实实在在地印证了这次的突破。
而这场光刻机风暴背后,究竟藏着怎样的玄机?
说起光刻机,这个听起来略显陌生的名词,却是全球芯片制造的”点金圣手“。想象一下,在一片指甲盖大小的硅片上,要刻画出数十亿个精密电路,这活儿就得靠它。
目前全球最顶尖的光刻机生产商,非荷兰ASML莫属。这家公司可不是盖的,一台最新款EUV光刻机价值3.2亿美元,订单排期两年起步。更狠的是,整个产业链被他们卡得死死的:全球90%以上的高端芯片,都要依赖ASML的机器来生产。
在各种禁令和限制下,中国企业想买最先进的光刻机?门儿都没有!上海微电子只能造90纳米级别的光刻机,与最先进的3纳米制程差了整整30倍。这就好比开着拖拉机要去跟F1赛车比速度。
但就在这样的背景下,哈工大团队却带来了一记重磅炸弹:他们在13.5纳米波长极紫外技术上实现了突破。这个消息一出,整个产业界都炸开了锅。
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