华为芯片突破,到底意味着什么?

作者:阿旦 投资与生活

本文转载自:六爷阿旦(ID:liuyeadan888)

美国商务部长雷蒙多访华,最大的收获,就是亲眼见证了一个历史性的时刻。为什么说这是个历史性的时刻?我愿意反反复复再多讲几次,让大家看到更深层次的,以及更高维度的战略意义。

不得不说,华为mate60pro发售的时候,很多人都还是懵的,根本不知道发生了什么,即便到了今天,估计美国也还是懵的,因为这个事情还需要进行全面深入的评估,就是在芯片产业上,我们已经突破到什么程度了,后面还要不要继续加大制裁力度,制裁还有没有用?

当然这些问题,对于很多人来说,压根还不在考虑范围之内,这两天很多人还在变换角度喷这个手机,说性能,说制程,说价格,其实他们还没意识到一点,当他们在说这些的时候,就已经降低了维度,在讲一个手机的事情,而现实中,美国关注的根本就不是一个手机的问题,而是整个芯片产业的突破。

华为芯片突破,到底意味着什么?

很多人还在聊,这个制程究竟是7nm还是5nm?而我前面已经多次说过,对于国防工业,科技产业来讲,绝大多数应用,工艺到14-28nm制程就完全可以满足目前的需要了。而国内目前的工艺水平主流就是在28nm,只有中芯国际有部分能达到14nm,而中芯国际的生产线,从设备到软件,核心都是国外支撑的。

换句话说,我们目前是战略安全自保有余,但是发展空间面临不足,因为科技产业未来,尤其是随着AI的发展,未来可能还需要大量10nm以下制程的芯片,如果不突破就会被卡脖子。而在美国看来,要封锁我们的尖端芯片生产易如反掌。以前不是有人说吗,连光刻机都可以远程锁死,这么说可能夸张了点,但是相关软件确实可以随时停用,中芯国际是没有还手之力的。

那么说到这里,从战略角度来讲,我们从美国的角度来看问题,很容易得出结论,把中国的芯片产业大部分限制在28nm制程,少量可控的达到14nm制程,应该是差不多可以封锁芯片产业的升级了。后面即便有中芯国际的多重曝光技术,可以达到7nm,但是毕竟很有限,而且美国也可控。

关键的一点是,美国从源头控制了荷兰光刻机生产商阿斯麦,国内的光刻机都是DUV光源,就没有14nm以下的EUV光刻机,全世界可以达到7nm,3nm制程的,目前只有韩国,台湾省,有正常运转的生产线。这就是常常听说的,10nm以下,需要EUV光刻机,而大陆之前受制裁,根本就没有阿斯麦的EUV的生产线。

管住源头,控制升级,这在美国看来基本上就封锁了我们的芯片产业升级。但是很显然,麒麟9000s不管是7nm还是5nm,反正肯定都是10nm以下制程,也都突破了美国设想的这个极限。

对手机而言,其实也还好,但是在战略层面,国防工业和科技产业面临的天花板,随着这块芯片诞生,被全面打开了,这部手机不光是遥遥领先,而是带给其他产业的发展空间,在芯片上面临的限制,从之前的只能28nm管够,到现在的7nm管够,华为撑开的这个发展空间,对诸多产业来说,在国产EUV光刻机全面崛起之前,都已经绰绰有余,非常绰绰有余,完全绰绰有余。

绰绰有余啊,你懂吗?

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