关于光刻机光源的消息！
众所周知，在光刻机中最重要的三大部件就是“光源、工件台/双工件台、反射镜/折射镜”。早期的干式DUV光刻机主要选用的是Arf光源，单工件台，折射式透镜组”；浸没式DUV光刻机采用的是“Arfi光源，双工件台，折射式透镜”。而EUV光刻机则用上了“极紫外光源，双工件台，反射式透镜。总而言之，DUV光刻机凭借一国之力还是可以搞出来滴，EUV嘛，难度就相当的高。
当然了，这种情况是针对于其他国家而言，全球几大高科技国家努努力还是有希望独自研制出来的，只是用时会比较长而已。在ASML不限售的前提下，日本的尼康和佳能也没有研究EUV光刻机的动力。毕竟市场已经固定了，想要分一杯ASML的EUV光刻机市场的羹，那也不是很容易的。然而，这种情况对于东方大国而言，就截然不同了。
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