上海微电子在长三角半导体产业峰会宣布,SSA800系列28nm浸没式DUV光刻机已交付中芯国际,进入批量量产状态,产线良率超90%,单次曝光分辨率达28nm,国产化率突破85%,年内启动首批次商业化交付,2026年中国光刻机28nm机型出货达50台,涨幅100%,ASML市场份额下滑。
SEMICON China 2026展会上,深圳市国资委全资控股的新凯来公司首次公开亮相,一口气发布31款半导体设备,设备命名采用中国名山(武夷山、峨眉山、昆仑山等),覆盖光刻、刻蚀、薄膜沉积等核心环节,国家队入场,国产设备体系化突破。
2026年4月3日,美国参众两院推出MATCH法案,将禁售范围从EUV扩大到所有型号浸没式DUV光刻机,明确将中芯国际、华虹、长存、长鑫等列入限制名单,倒逼国产替代加速。
本期对光刻机产业链进行梳理,筛选出最具核心价值的八家企业,以供研究和跟踪参考。
8. 蓝英装备
通过瑞士子公司UCMAG切入ASML供应链,提供EUV/晶圆清洗设备,同时布局国产光刻机配套清洗方案,双向布局优势显著。
7. 华特气体
国内唯一通过国际龙头认证的电子特气供应商,高纯氪气、氖气覆盖28nm及以下先进制程,国产替代率超40%,为光刻过程提供洁净动力。
6. 茂莱光学
上海微电子核心光学部件供应商,主导物镜系统中的透镜、棱镜研发生产,单台设备配套价值超5000万元,是DUV光学领域国产替代核心力量。
5. 富创精密
获得ASML认证的反应腔精密金属件供应商,在真空腔体领域技术领先,是全球光刻机精密结构件核心玩家,国产化率持续提升。
4. 中微公司
5nm刻蚀技术获台积电订单,国产半导体设备首次进入台积电5nm先进制程供应链,技术可迁移至光刻机相关环节,获国家大基金重点注资。
3. 北方华创
半导体设备”国家队”,覆盖刻蚀、薄膜沉积等多环节,14nm设备已量产,7nm设备良率持续提升,客户覆盖国内所有主流晶圆厂。
2. 张江高科
通过子公司深度持有上海微电子10.779%股权,是光刻机商业化落地的最直接受益方,同时依托张江科学城构筑”设备+制造+生态”的全链布局。
1. 上海微电子
国内唯一研发、生产及销售高端光刻机的企业,28nm浸没式DUV光刻机已量产,良率超90%,国产化率突破85%,技术+市场双领先,国产光刻机绝对龙头。
光刻机产业链一览表

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