EUV光刻机国产化大概是全国网民最为关心的话题之一了，其影响力丝毫不亚于大家日思夜想的“水分子”。
今年第三季度已近尾声，这个话题又被有海外消息所点燃。
对于EUV光刻机所需的各项子系统，如光源，工件台，以及照明系统及其反射镜等，几乎都已经不存在障碍。而作为一项庞大的系统工程，如何做得好系统集成，解决兼容性问题，并且做到经济稳定地长时间运行，才是最为关键的问题。
诚然，差距是客观存在的，有许多小伙伴不相信中国能够制造EUV光刻机，甚至觉得子系统国内都无法制造的观点也是很普遍的。那我们就以EUV光刻所需的高真空系统为例，目前其实现和解决方案业内主要由英国的Edwards所提供。但实际上超高真空的系统和实现方法，目前属于中国出口管制禁令内的，这就很让人意外了！
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