光刻机，具有确定性的10家公司

近期，国内半导体装备领域捷报频传：璞璘科技正式交付其自主研发的步进式纳米压印光刻设备，实现线宽小于10nm的工艺能力，关键性能指标超越日本佳能同类产品；与此同时，成立仅半年的上海芯上微装宣布完成500台步进光刻机交付，刷新行业纪录。这些突破性进展标志着我国在高端光刻装备领域的自主化进程正加速推进。

光刻机作为芯片制造的“皇冠明珠”，技术壁垒极高，长期被海外巨头垄断。如今，从整机到核心零部件、从光学系统到特种气体，一批具备“唯一性”特征的国产企业正逐步打破封锁，在各自细分赛道实现关键技术突破。

本文我们聚焦光刻机全产业链，精选出10家在技术、资质或市场地位上具备“不可替代性”的代表性企业，供产业界与研究者参考。

第一家：张江高科
细分领域：园区开发、产业投资
唯一性：通过旗下子公司间接持有上海微电子约10%股权，而上海微电子是国内唯一具备光刻机整机量产能力的企业。
公司亮点：作为张江科学城核心开发主体，不仅打造了多个集成电路产业园区，还设立“张江浩芯”创新服务平台，打通芯片从设计、流片到量产的全链条生态。

第二家：大族激光
细分领域：激光与精密制造装备
唯一性：A股市场中唯一公开披露已推出接近式光刻机产品的上市企业。
公司亮点：构建了从激光器、光学系统到整机设备的垂直整合能力，其光刻设备已在部分封装与MEMS领域实现商用，是国产光刻整机的重要探索者。https://wxa.wxs.qq.com/tmpl/ok/base_tmpl.html

第三家：茂莱光学
细分领域：高端光学元件与成像系统
唯一性：国内唯一实现DUV光刻机投影物镜批量交付的企业，掌握亚纳米级面型控制技术。
公司亮点：国家专精特新“小巨人”，与上海微电子深度协同，在DUV光学系统领域实现材料、设计、加工、检测全链路自主可控。

第四家：凯美特气
细分领域：电子特种气体
唯一性：国内少数掌握EUV光刻所需高纯稀有气体纯化技术的企业，产品已进入ASML供应链体系。
公司亮点：依托工业尾气回收提纯技术，在氪、氙等光刻关键气体领域填补国内空白，获多项国际半导体客户认证。

第五家：华特气体
细分领域：半导体用混合气体与气体工程
唯一性：国内唯一同时获得ASML与GIGAPHOTON双认证的气体供应商。
公司亮点：成功实现50余种电子特气国产化，多款光刻混合气已应用于5nm及以下先进制程，客户覆盖全球头部晶圆厂。

第六家：新莱应材
细分领域：超高纯洁净材料与真空系统
唯一性：其半导体级气体管路与真空腔体组件已通过ASML、应用材料（AMAT）等国际设备商认证，并用于光刻机内部环境控制系统。
公司亮点：国内极少数同时服务泛半导体、生物医药、食品三大高洁净领域的材料企业，技术达国际一流水平。

第七家：美埃科技
细分领域：洁净室与空气净化系统
唯一性：为上海微电子28nm光刻机配套开发专用超净环境解决方案，打破海外企业在光刻洁净系统领域的长期垄断。
公司亮点：拥有11个海内外生产基地，洁净产品广泛应用于中芯国际、长江存储等头部Fab厂，是国产光刻生态的关键支撑者。https://wxa.wxs.qq.com/tmpl/ok/base_tmpl.html

第八家：炬光科技
细分领域：高功率半导体激光器
唯一性：其激光光源模块作为关键子系统，已应用于全球顶级光刻设备制造商的光学检测与对准系统。
公司亮点：国家技术创新示范企业，是ASML核心光学设备供应商的重要上游合作伙伴，在激光精密调控领域具备全球竞争力。

第九家：奥普光电
细分领域：精密光机电系统
唯一性：控股股东长春光机所（长光所）是我国EUV光刻核心技术攻关单位之一，公司自身可提供光刻机所需的高精度光学晶体与运动控制部件。
公司亮点：在空间光学、激光通信等领域积累深厚，多项技术转化至半导体装备领域，具备EUV光学系统研发基础。

第十家：波长光电
细分领域：大口径精密光学元件
唯一性：已具备为先进光刻机配套大孔径照明与投影镜头的能力，参与研发的EUV物镜系统面型精度达2nm，处于国内领先水平。
公司亮点：国家专精特新“小巨人”，掌握超光滑抛光、离子束修形等核心技术，曾获“中国激光行业卓越贡献奖”。

从整机集成到光学、气体、材料、洁净环境等关键子系统，上述10家企业在各自赛道上实现了“从0到1”甚至“从1到N”的跨越，构成了中国光刻机自主生态的骨干力量。

随着璞璘科技、芯上微装等新兴力量的崛起，以及政策、资本、人才的持续汇聚，国产光刻机正从“能做”迈向“好用”“快用”的新阶段。这些具备“唯一性”的企业，有望在新一轮半导体国产化浪潮中扮演更关键角色。